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半自動光刻機在高精度微加工中的實際應用
半自動光刻機在高精度微加工中的實際應用 2025-04-15

隨著微電子技術和納米技術的快速發(fā)展,光刻技術成為了半導體制造和高精度微加工中的核心技術。尤其是半自動光刻機,憑借其較高的性價比和較為靈活的操作模式,已經(jīng)在許多高精度微加工領域中得到了廣泛應用。一、半自動光刻機的工作原理光刻技術通過利用光敏材料(光刻膠)在紫外光或激光照射下發(fā)生化學...

  • 快速動力學停流裝置能提供高質(zhì)量數(shù)據(jù) 2021-09-27

    快速動力學停流裝置為樣品經(jīng)濟性設定了新的標準,只需要120微升的樣品進行沖洗、裝載和收集數(shù)據(jù),同時進行3-4次重復測量,沖洗和樣品裝入均自動完成,只需將120微升的溶液移到每個樣品杯中,在設計這種儀器的過程中,我們還增加了新的降噪電路,以改善信號。裝置用于數(shù)據(jù)收集和分析,給予的方便使用和功率,在消耗較少的樣本和較少的時間的同時,為您提供更高質(zhì)量的數(shù)據(jù),可選的機器人自動取樣器增加了吞吐量甚至更多,以負擔每天數(shù)百個樣品的無人值守的停止流動測量。快速動力學停流裝置主要特點:1.恒溫...

  • 氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器提供廣泛的濃度設置 2021-08-25

    氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器能夠分散干燥粉塵和粉末,適用于需要連續(xù)穩(wěn)定高精度生成氣溶膠的應用,這些測試氣溶膠通常被用于氣溶膠科學、過濾器檢驗、工業(yè)加工和*任務。儀器具有可互換的分散裝置,可以在不同的輸出濃度下分散不同的材料,即使在環(huán)境濕度較高的地方,儀器也能通過壓力蓋保持材料干燥,是一種通用的干粉氣溶膠擴散器,其在氣溶膠及粉體科學、工業(yè)過程和質(zhì)量控制中有廣泛應用。干粉和灰塵的擴散技術包含兩個步驟:即向擴散器持續(xù)供料;將粉體擴散為氣溶膠。氣溶膠粒徑譜儀粉塵發(fā)生器采用電池供電,因此使...

  • 脈沖激光外延制備系統(tǒng)的9個優(yōu)勢介紹 2021-07-23

    脈沖激光外延制備系統(tǒng)可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料,還提供相關系統(tǒng)配件,例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具,還為您提供標準的薄膜以及材料涂層,例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶、聚合物、納米鉆石、鉆石涂層以及器件加工。優(yōu)勢:1.靶源易蒸發(fā),即使是高熔點的材料,如氧化物,也很容易蒸發(fā)。2.化學計量比準確,沉積的薄膜和靶材的化學組分幾乎*一樣。3.污染少。4.激光脈沖的重復頻率可進行薄膜厚度/生長速率的數(shù)字式或非連續(xù)性控制。5.差分抽氣...

  • 狹縫擠出式涂布機可適用的涂料粘度范圍廣 2021-06-27

    狹縫擠出式涂布機配合精密計量泵供料,漿料封閉運行,可自由設定供料量,涂布精度高,涂層一致性好,若需實現(xiàn)間歇涂布,可選配閥體組件實現(xiàn),配合漿液供料裝置實現(xiàn)高精密涂布應用。涂布機弧形主驅(qū)熱風式烘箱,干燥效果好,基材閉環(huán)張力控制,走帶穩(wěn)定,配置放卷糾偏、收卷糾偏、過程糾偏功能,操作方便,糾偏精度高,PLC控制,方便易用。本設備應用于鋰電池正、負極極片涂布工藝,是一款應用狹縫擠出式涂布模頭對基材進行非接觸式涂布的一款設備,該設備通過配置狹縫擠壓涂布模頭、計量供料系統(tǒng)與進料閥體配合可實...

  • 球磨測厚儀可快速準確的測出鍍層的厚度 2021-05-25

    球磨測厚儀可快速獲得涂層厚度,簡單的球坑法是快速且精確地獲得所有涂層厚度的有效方法,適用單層和多層膜的涂層,通常包括CVD、PVD等離子噴涂涂層、陽極氧化層、化學和電沉積、聚合物、油漆和涂料。球磨儀使用的球坑法能夠簡單準確地測得涂層厚度,通過用已知尺寸的球在涂層上磨出小球坑來實現(xiàn)該目的,使用光學顯微鏡觀察時可看到呈錐形薄膜橫截面。膜厚儀只需2到5分鐘即可測量出涂層的厚度,電機固定在一個液壓臂上,從而對樣品的尺寸不造成任何限制,該測試儀是快速精確地測量工業(yè)中常見的涂層部件的涂層...

  • 深能級瞬態(tài)譜儀用于光伏太陽能電池領域中 2021-04-27

    深能級瞬態(tài)譜儀是檢測半導體材料中深能級雜質(zhì)和晶體缺陷有用的方法,可用于檢測太陽能電池材料中的各種雜質(zhì)和缺陷,包括金屬雜質(zhì)以及點缺陷和位錯的等各種缺陷類型,從而分析影響少子壽命的關鍵性雜質(zhì)元素和缺陷。深能級瞬態(tài)譜是半導體領域研究和檢測半導體雜質(zhì)、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要技術手段,根據(jù)半導體P-N結(jié)、金-半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容技術和深能級瞬態(tài)譜的發(fā)射率窗技術測量出的深能級瞬態(tài)譜,是一種具有很高檢測靈敏度的實驗方法,能檢測半導體中微量雜質(zhì)、缺陷的深能級及界面態(tài),通過對樣品的...

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