多功能磁控濺射儀采用高電壓二極直流濺射方式沉積薄膜，這種設(shè)計(jì)優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，但是缺點(diǎn)是容易造成能量集中，對(duì)于樣品有明顯的溫升效應(yīng)的，采用磁控濺射手段，通過磁控陰極+直流電源方式對(duì)樣品噴金處理，有較低的離子轟擊損傷和溫升效應(yīng)；另外還有操作簡(jiǎn)單，觸控面板界面，一鍵式操作。

　　主要特點(diǎn)：

　　1，側(cè)面雙開門結(jié)構(gòu)，便于裝片。

　　2，*設(shè)計(jì)預(yù)濺射擋板，工藝控制簡(jiǎn)便，節(jié)省時(shí)間。

　　3，充氣和抽氣系統(tǒng)，有效鍍膜區(qū)寬。

　　4，脈沖偏壓非平衡對(duì)靶中頻磁控濺射技術(shù)，鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定。

　　5，采用PLC工控機(jī)控制，可實(shí)現(xiàn)設(shè)備和工藝手動(dòng)和自動(dòng)控制，多重泵閥水電互鎖互保護(hù)。

　　6，安裝采用全程四極質(zhì)譜監(jiān)控和氦質(zhì)譜檢漏，真空密封性好，設(shè)備工藝穩(wěn)定可靠。

　　應(yīng)用范圍：可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。

　　多功能磁控濺射儀適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備，占地面積小，價(jià)格便宜，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低，可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等；單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。